Os filmes finos têm sido utilizados em diferentes aplicações...
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Q2463538
Química
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Atenção! A tabela periódica a seguir servirá de apoio a questão da prova de Química.
Os filmes finos têm sido utilizados em diferentes aplicações como
revestimentos óticos e proteção metálica, podendo ser obtidos
por meio de diferentes processos.
Os filmes de sílica (SiO2) podem ser obtidos por meio de decomposição de vapor químico. Nesse processo o tetracloreto de silício gasoso (SiCl4) reage com gás hidrogênio (H2) e gás carbônico (CO2). Além do filme de sílica são formados, como subprodutos, os gases cloreto de hidrogênio (HCl) e monóxido de carbono (CO).
A transformação química descrita é corretamente representada por:
Os filmes de sílica (SiO2) podem ser obtidos por meio de decomposição de vapor químico. Nesse processo o tetracloreto de silício gasoso (SiCl4) reage com gás hidrogênio (H2) e gás carbônico (CO2). Além do filme de sílica são formados, como subprodutos, os gases cloreto de hidrogênio (HCl) e monóxido de carbono (CO).
A transformação química descrita é corretamente representada por:
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