No estudo dos materiais semicondutores e dispositivos de estado sólido, o processo de purificação e posterior inserção controlada de impurezas nos cristais de silício ou germânio é realizado para alterar a produção de elétrons livres e lacunas. Sabendo disso, assinale a alternativa que indica o nome correto desse processo e o valor da barreira de potencial (queda de tensão) para um diodo de Silício (Si) a 25°C: