Questões de Concurso
Para engenharia química
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I. Ambas as técnicas usam um plasma como fonte de energia para desestabilizar a configuração eletrônica dos átomos presentes na amostra.
II. Os limites de detecção obtidos para técnica de ICP-MS são inferiores aos obtidos pela técnica de ICP-OES.
III. A técnica de ICP-MS tem baixa tolerância a sólidos dissolvidos, em comparação a técnica de ICP-OES.
IV. Ambas as técnicas o plasma atua como uma fonte de íons, não de radiação emitida.
É correto ao que se afirma somente em
Dados: a pressão de vapor do benzeno e do tolueno a 60 ºC é de 53 kPa e 18 kPa, respectivamente.