O objetivo da etapa de exposição do fotorresiste é a remoção do filme das áreas irradiadas durante o processo de exposição e preservação do filme  não exposto. 

Os fotorresistes são classificados em positivos e negativos. O fotorresiste positivo é inicialmente um polímero insolúvel na solução utilizada como revelador. O negativo é de início solúvel na solução utilizada como revelador e, durante a exposição, se polimeriza tornando-se insolúvel.

O objetivo da etapa de processamento do substrato é remover a máscara de fotorresiste, que foi utilizada durante o processo de corrosão. 

O objetivo da etapa de limpeza é reduzir, ao máximo possível, a umidade da superfície do substrato.

Não são consideradas variáveis relevantes para o controle do processo de desidratação do substrato a umidade relativa e a temperatura do ambiente, além do tempo de desidratação.