Nas técnicas de deposição de filmes finos, podem-se utilizar métodos químicos ou físicos. Nesse contexto, é um método químico Alternativa A: spin-coating. Ou Alternativa B: evaporação. Ou Alternativa C: sputtering. Ou Alternativa D: CVD em baixa pressão. Ou Alternativa E: reactive sputtering.

Nas técnicas de deposição de filmes finos, podem-se utilizar...

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Ano: 2024 Banca: CESPE / CEBRASPE Órgão: LNA Prova: CESPE / CEBRASPE - 2024 - LNA - Tecnologista – Especialidade: Desenvolvimento e Integração de Instrumentação Científica e Planejamento e Execução de Atividades em Laboratórios de Pesquisa e Desenvolvimento Tecnológico |

Q2470171 Engenharia Elétrica

Nas técnicas de deposição de filmes finos, podem-se utilizar métodos químicos ou físicos. Nesse contexto, é um método químico

spin-coating.

evaporação.

sputtering.

CVD em baixa pressão.

reactive sputtering.

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O método CVD é fundamentalmente químico, pois envolve reações químicas de gases precursores na superfície do substrato. Já a evaporação e o sputtering são classificados como PVD (Deposição Física de Vapor), baseando-se em processos físicos.

Nas técnicas de deposição de filmes finos, podem-se utilizar...

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