Alternativa correta: A

1. Tema central da questão

A questão aborda a fotolitografia, técnica essencial na fabricação de circuitos integrados e dispositivos semicondutores em eletrônica digital. Entender esse processo é fundamental porque ele permite a transferência precisa de padrões microscópicos para lâminas de silício, o que torna possíveis as características dos chips modernos.

2. Resumo teórico

Na fotolitografia, uma máscara com o padrão desejado é usada para bloquear ou permitir a passagem de luz ultravioleta sobre um filme de fotorresiste aplicado a uma lâmina de silício. Onde a luz atinge, o material sofre alteração química, formando assim o desenho do circuito. Cada etapa com uma máscara diferente permite criar várias camadas e estruturas complexas no chip (Microfabrication, Jaeger, 2002).

3. Justificativa da alternativa correta (A)

A alternativa A está correta porque descreve fielmente o uso da máscara: ela serve para reproduzir padrões sobre a lâmina de silício, sendo cada máscara responsável por uma etapa específica, como a formação de trilhas, contatos ou regiões dopadas.

4. Análise das alternativas incorretas

B – Incorreta. Fotoalinhadoras são justamente equipamentos usados para transferir o padrão da máscara para o substrato, com exposição à luz ultravioleta.

C – Incorreta. Máscaras de alta qualidade são projetadas para serem usadas na fotogravação. O texto da alternativa está em desacordo com a prática do processo.

D – Incorreta. Os sistemas de contato e proximidade usam sim a imagem projetada de uma máscara para transferir padrões ao filme de fotorresiste.

E – Incorreta. A etapa de desidratação visa remover umidade, mas o controle de contaminantes ocorre em todo o processo, não sendo específico dessa etapa.

Dicas de interpretação: Sempre busque palavras como “não”, “apenas”, “nunca”, pois costumam sinalizar pegadinhas. Leia atentamente o que cada etapa (máscara, alinhamento, exposição, desidratação) realiza na fotolitografia.

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