Questões de Concurso Público UFMG 2023 para Físico
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A figura 3 mostra diversas quantidades relevantes de um gás em diferentes graus de vácuo.
ROTH, Alexander. Vacuum technology. Amsterdam: North-Holland, 1979, p. 2.
Considere as afirmativas I e II, e as afirmativas III e IV, a seguir.
I. Esse conjunto deve estar necessariamente em vácuo,
PARA QUE
II. A amostra não se contamine.
III. A pressão de trabalho deve ser necessariamente menor que 10-8 N/m2 ,
POIS ASSIM
IV. Os elétrons se deslocam sem sofrer espalhamento pelo gás residual no microscópio.
A respeito dessas afirmativas, assinale a alternativa correta.
Leia a tabela de energias de ionização (valores de energia em keV), na próxima página.
De acordo com essa tabela, podemos identificar os elementos presentes na amostra.
Dessa forma, é correto afirmar que os elementos presentes são:
S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed, Wiley, 1981, p. 247.
Assinale V para (verdadeira) ou F para (falsa) diante de cada afirmativa a seguir:
( ) Na inexistência de defeitos na superfície do semicondutor, a barreira dependerá da função trabalho do metal.
( ) A barreira Schottky surgirá sempre, porque o metal sempre causa defeitos no semicondutor.
( ) Superfícies semicondutoras ricas em defeitos tornam a barreira independente do metal.
Assinale a sequência correta.
Considere a figura 15 com as situações de polarização de junções Schottky.
S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed, Wiley, 1981, p. 249.
Assinale V para (verdadeiro) ou F para (falso) diante das afirmativas a seguir:
( ) Nos casos (a), a barreira não depende da tensão de polarização.
( ) Para polarização reversa severa, ocorrerá tunelamento.
( ) Para polarização reversa, a barreira é definida pela junção.
Assinale a alternativa com a sequência correta.
S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed, Wiley, 1981, p. 306.
Assinale V para (verdadeira) ou F para (falsa) para as afirmativas a seguir:
( ) No caso (a) pode existir assimetria da curva do módulo da corrente versus a tensão, mesmo que pequena.
( ) Essas estratégias só funcionam para semicondutores tipo n.
( ) No caso (b) o mecanismo principal de injeção de carga será tunelamento.
A sequência correta é: